Вольфрамовый лист 0,1х20х2000 мм ВА в Пятигорске

Вольфрамовый лист используется в защите от ионизирующего излучения благодаря его высокой плотности и высокому атомному номеру. Эти свойства обеспечивают эффективное поглощение рентгеновского и гамма-излучения, применяясь в медицинском оборудовании и ядерной энергетике.

Вольфрамовые листы с зеркальной поверхностью необходимы для применений, требующих максимального термического отражения или минимальной эмиссии. Это актуально для тепловых экранов вакуумных печей, оптических систем или подложек для высокоточного осаждения тонких пленок, где важна гладкость.

Оптимальны для лазерной резки ровные, плоские листы без деформаций и поверхностных дефектов. Чистая поверхность, отсутствие загрязнений и окислов способствует стабильному процессу резки и получению высококачественных кромок.

Состав листа ВА, особенно его чистота и отсутствие примесей, влияют на устойчивость к нейтронному излучению. Чистый вольфрам обладает высоким сечением захвата нейтронов, а допированные марки ВА могут демонстрировать лучшую сопротивляемость радиационному охрупчиванию.

Для защиты вольфрамового листа от окисления при 900°С на воздухе необходима изоляция от кислородной среды. Применяют защитные газовые атмосферы (аргон, водород), вакуум или нанесение защитных покрытий, например, дисилицида молибдена.

Для работы в среде азотной кислоты с концентрацией 70% при 60°С вольфрамовый лист непригоден. Вольфрам подвержен интенсивной коррозии в горячих концентрированных окислительных кислотах, включая азотную, образуя вольфрамовую кислоту.

Коррозии листа ВА в атмосфере сероводорода способствуют повышенные температуры (свыше 700-800°С) и наличие влаги. В этих условиях вольфрам может реагировать с сероводородом, образуя сульфиды, что приводит к поверхностной деградации.